鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)分為(wei)機(ji)械鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)和(he)化(hua)(hua)學(xue)溶液鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)。機(ji)械鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)是(shi)對金屬材料 (粗磨、細(xi)磨) 和(he)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)過程進行拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)的(de)(de)過程, 實(shi)現表(biao)面光(guang)滑、閃(shan)亮(liang)、鏡(jing)(jing)面般的(de)(de)表(biao)面。化(hua)(hua)學(xue)溶液鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)是(shi)利用(yong)化(hua)(hua)學(xue)溶液浸泡, 去除(chu)表(biao)面氧(yang)化(hua)(hua)物, 達到明亮(liang)的(de)(de)效果(guo)。機(ji)械鏡(jing)(jing)面拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)是(shi)對金屬材料進行拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang) (粗磨、細(xi)磨) 和(he)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang) (WENDT 三步(bu)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)) 的(de)(de)過程, 以實(shi)現光(guang)滑、閃(shan)亮(liang)、鏡(jing)(jing)面狀的(de)(de)表(biao)面。

I. 拋光工藝

拋光(guang)的(de)目的(de)是獲(huo)得光(guang)滑的(de)表面。此時, 磨(mo)面上仍有(you)非常精(jing)細、均(jun)勻的(de)磨(mo)損痕跡。磨(mo)削分為粗磨(mo)和細磨(mo)兩種。

1. 粗糙(cao)磨削: 粗糙(cao)研磨是將粗糙(cao)的表面和不規則的形狀整整齊齊。

2. 精(jing)磨: 粗(cu)加工后的金(jin)屬表面仍有深磨痕跡, 需要(yao)在精(jing)磨中消除, 以(yi)便進行(xing)拋光準備。

二、表面拋光工藝

拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過程用于(yu)獲(huo)得拋(pao)(pao)光(guang)(guang)的、類似(si)鏡面(mian)(mian)的表(biao)(biao)面(mian)(mian)。大(da)部分采用拋(pao)(pao)光(guang)(guang)輪(lun)對表(biao)(biao)面(mian)(mian)反復拋(pao)(pao)光(guang)(guang)的零(ling)件(jian)極小(xiao)的不均勻, 一(yi)般(ban)涂(tu)(tu)布(bu)表(biao)(biao)面(mian)(mian)進(jin)行(xing)改(gai)性。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)是涂(tu)(tu)層或零(ling)件(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)的最后一(yi)步。其目的是消除拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過程后表(biao)(biao)面(mian)(mian)留下的細磨痕跡。理想的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)表(biao)(biao)面(mian)(mian)應光(guang)(guang)滑、明(ming)亮、無追溯、天空浮雕, 無凹坑(keng), 無金(jin)屬層破壞鏡面(mian)(mian)狀態。拋(pao)(pao)光(guang)(guang)和(he)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)后表(biao)(biao)面(mian)(mian)會發生變化。

噴涂(tu) 前置處理(li) 拋光(guang)工序(xu)